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當前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 賽默飛 > 賽默飛波譜儀 > 賽默飛Nexsa G2 X 射線(xiàn)光電子能譜儀
簡(jiǎn)要描述：賽默飛Nexsa G2 X 射線(xiàn)光電子能譜儀可進(jìn)行全自動(dòng)、高通量的表面分析，提供用于推進(jìn)研發(fā)或解決生產(chǎn)問(wèn)題的數據。 集成 XPS 與離子散射譜(ISS)、紫外光電子能譜 (UPS)、反射電子能量損失譜(REELS)和拉曼光譜，讓您進(jìn)行真正的聯(lián)用分析。
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2024-02-21訪(fǎng) 問(wèn) 量：1072產(chǎn)品分類(lèi)CLASSIFICATION
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詳細介紹
| 品牌 | Thermofisher Scientific/賽默飛世爾 | 窗口類(lèi)型 | - |
|---|---|---|---|
| 探測器面積 | -mm | 最大計數率 | -cps |
| 峰背比 | - | 分辨率 | -eV |
| 價(jià)格區間 | 40萬(wàn)-50萬(wàn) | 探測器類(lèi) | 鋰漂移硅探測器Si(Li) |
| 儀器種類(lèi) | 進(jìn)口 | 應用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,制藥 |
賽默飛Nexsa G2 X 射線(xiàn)光電子能譜儀標準化性能：
· 絕緣體分析
· 高性能XPS性能
· 深度剖析
· 多技術(shù)聯(lián)合
· 雙模式離子源，使深度剖析功能得到擴展
· 用于 ARXPS 測量的傾斜模塊
· 用于儀器控制、數據處理和報告生產(chǎn)的 Avantage 軟件
· 小束斑分析
可選的升級：可將多種分析技術(shù)集成到您的檢測分析中。式自動(dòng)運行
· ISS：離子散射譜，分析材料表面1-2原子層元素信息，通過(guò)質(zhì)量分辨可分析一些同位素豐度信息。
· UPS：紫外光電子能譜用于分析金屬/半導體材料的價(jià)帶能級結構信息以及材料表面功函數信息
· 拉曼：拉曼光譜技術(shù)用于提供分子結構層面的指紋信息
· REELS：反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測以及材料能級結構和帶隙信息
賽默飛Nexsa G2 X 射線(xiàn)光電子能譜儀應用領(lǐng)域
· 電池
· 生物醫藥
· 催化劑
· 陶瓷
· 玻璃涂層
· 石墨烯
· 金屬和氧化物
· 納米材料
· OLED
· 聚合物
· 半導體
· 太陽(yáng)能電池
· 薄膜
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